EPI工艺气体传输控制柜
随着半导体技术的不断发展，硅外延工艺也在不断优化和创新。未来，硅外延工艺可能会朝着更高的纯度、更大的晶体尺寸、更低的缺陷密度等方向发展，以满足高性能半导体器件的制造需求。硅外延作为一种关键的半导体制造工艺，对于提高半导体器件的性能和可靠性具有重要意义。硅外延工艺气体传输控制柜是半导体制造中不可或缺的设备之一，它通过精确控制气体的流量、压力和纯度，为外延生长提供稳定的气体环境，从而确保外延层的高质量、均匀性。
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产品特点
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产品参数
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质量管理
产品特点
高精度流量控制
通过精确的阀门系统、流量控制器、压力控制器，实现对特种气体的精确传输和控制
确保气体流量、压力等参数的稳定性
安全稳定性
气柜配有门互锁开关、压力安全开关、单向阀、火焰报警器等安全部件保证气柜安全
设备采用防爆、防腐等设计，提高了设备的安全性能
高气密性
产品采用IGS和VCR接口形式实现半导体设备的高气密性
高洁净度
采用高精度过滤器能够去除3nm以上的颗粒杂质
安全认证
通过SEMI S6测试安全认证
产品参数
| 外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保压测试50psi | 氮气保压测试, 保压12h,压降 ≤1% |
| 氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可选） |
| 颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧测试 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可选） |
质量管理
富创质量管理秉承"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、过程全生命周期质量管理关注各环节中入口质量、过程质量、出口质量,以保证整体质量可控,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产品更具竞争力。
