反应腔模组
反应腔模组是半导体设备的核心部分，其性能直接影响到半导体设备稳定性和性能表现。
公司的反应腔模组整体性能要求均通过国际主流客户认证，主要应用PVD、CVD、ALD、ETCH、RTP等半导体设备。
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产品特点
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产品参数
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相关方案
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质量管理
产品特点
高密封性
高密封性保证了设备真空环境的实现和保持，为晶圆制程反应提供稳定的支撑
高洁净度
高洁净的设备零部件是晶圆工艺制程得到良品率的基础
制程设备的洁净度直接决定了在制晶圆及后续芯片的良品率，甚至决定了整条生产线是否有合格品产出
高耐腐蚀
高耐腐蚀的设备零部件是芯片刻蚀制程设备的功能需求
零件的耐腐蚀性能决定了设备的功能性、可靠性、和设备在线停机维护的频次高低
产品参数
| 组成 | 工艺零部件、结构零部件、管路器件、标准件 |
| 漏率 | 1*10-9torr*l/s |
| 洁净度 | 关键部件LPC液态粒子检测、ICPMS金属元素检测、荧光检测 |
质量管理
富创质量管理秉承"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、过程全生命周期质量管理关注各环节中入口质量、过程质量、出口质量,以保证整体质量可控,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产品更具竞争力。
